Fabrication and low-temperature characterization of Si-implanted thermistors / ALESSANDRELLO A; BROFFERIO C; CAVALLINI R; CREMONESI O; FERRARIO L; GIULIANI A.; MARGESIN B; NUCCIOTTI A; PARMEGGIANO S; PAVAN M; PESSINA G; PIGNATEL G; PREVITALI E. - In: JOURNAL OF PHYSICS D. APPLIED PHYSICS. - ISSN 0022-3727. - 32(1999), pp. 3099-3110.
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1999 |
Titolo: | Fabrication and low-temperature characterization of Si-implanted thermistors |
Rivista: | JOURNAL OF PHYSICS D. APPLIED PHYSICS |
Codice identificativo ISI: | WOS:000084678200006 |
Appare nelle tipologie: | Articolo su Rivista |
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