I campi magnetici ELF sono per lo più generati da sorgenti che utilizzano correnti elettriche la cui frequenza è inferiore ad alcuni kHz. Con l’aumentare dell’utilizzo di apparecchiature elettriche o sistemi di trattamento industriale di materiali che utilizzano elevate correnti (riscaldamento, induzione, fusione, saldatura,…) è sorta l’esigenza di verificare che il livello di esposizione in prossimità di queste sorgenti non sia tale da provocare danni all’organismo umano. A questo proposito le linee guida internazionali riguardanti l’esposizione umana riportano i limiti di campo a cui le persone possono essere esposte senza che insorgano effetti acuti (es.: disturbi al sistema nervoso). In questa memoria si descrivono i punti principali dell’attività in corso di svolgimento riguardante l’analisi dei campi magnetici a frequenza industriale (ELF).

Analisi di campi elettromagnetici ELF

SIENI E.;
2005-01-01

Abstract

I campi magnetici ELF sono per lo più generati da sorgenti che utilizzano correnti elettriche la cui frequenza è inferiore ad alcuni kHz. Con l’aumentare dell’utilizzo di apparecchiature elettriche o sistemi di trattamento industriale di materiali che utilizzano elevate correnti (riscaldamento, induzione, fusione, saldatura,…) è sorta l’esigenza di verificare che il livello di esposizione in prossimità di queste sorgenti non sia tale da provocare danni all’organismo umano. A questo proposito le linee guida internazionali riguardanti l’esposizione umana riportano i limiti di campo a cui le persone possono essere esposte senza che insorgano effetti acuti (es.: disturbi al sistema nervoso). In questa memoria si descrivono i punti principali dell’attività in corso di svolgimento riguardante l’analisi dei campi magnetici a frequenza industriale (ELF).
2005
Atti del XII congresso nazionale associazione Gruppo Misure Elettriche e Elettroniche (GMEE)
251
256
6
ELETTRONICO
XII congresso nazionale associazione Gruppo Misure Elettriche e Elettroniche (GMEE)
Palermo
5-7 Settembre 2005
Inglese
campi magnetici; extremely low frequency; esposizione
Atti di Convegno::Relazione (in Volume)
none
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
3
Bertocco, M.; Sieni, E.; Sona, A.
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